導(dǎo)電無(wú)紡布擋墻膠帶包括基材層以及在基材層單面或雙面依次層疊分布的蒸鍍層、冷噴金屬沉積層、異相導(dǎo)電膠層和離型膜層。其中基材層以采用厚度為10μm至100μm的無(wú)紡布作為基材；蒸鍍層為利用真空磁控濺射蒸鍍的方法在基材層的一面鍍上的導(dǎo)電層；冷噴金屬沉積層為利用金屬冷噴技術(shù)在蒸鍍層上噴涂沉積的一層連續(xù)的導(dǎo)電層；異相導(dǎo)電膠層為通過(guò)涂布工藝在冷噴金屬沉積層上涂上的一層異相導(dǎo)電膠。
  導(dǎo)電無(wú)紡布擋墻膠帶的制造方法包括如下步驟：
  ①選擇厚度為10μm至100μm的無(wú)紡布作為基材層，無(wú)紡布之間的孔隙需小于0.3mm；
  ②利用真空磁控濺射蒸鍍的方法，將基材層的一面或兩面都鍍上一層銀、銅或鎳的金屬導(dǎo)電層即蒸鍍層，該蒸鍍層的厚度為納米級(jí)；
  ③以蒸鍍后的無(wú)紡布為第二基材，利用金屬冷噴技術(shù)，在蒸鍍層的另一面噴涂沉積一層連續(xù)的導(dǎo)電的冷噴金屬沉積層，冷噴金屬沉積層所采用的金屬粉體的粒徑選擇在1μm至50μm粒徑。
  該導(dǎo)電無(wú)紡布擋墻膠帶性能優(yōu)越且制成過(guò)程較為環(huán)保。